LithoGRPO：透過 GRPO 強化流匹配的快速逆光刻技術

研究論文提出 LithoGRPO，一個用於逆光刻技術（ILT）的新型框架。在半導體製造中，光刻將電路佈局投影到矽晶片上，但隨著特徵尺寸縮小至光線波長以下，光學繞射導致印刷圖案偏離設計。逆光刻技術通過生成優化掩模來提升圖案轉移的保真度。LithoGRPO 整合流匹配範式與基於 GRPO 的強化學習微調，能高效探索多樣化掩模以適應目標佈局。與純生成或基於優化的方法不同，強化學習在 LithoGRPO 中利用明確定義的基於物理的獎勵函數，使優化能在複雜的製程感知約束下進行。這是首個統一流匹配與強化學習用於掩模優化的框架。為改善強化學習採樣效率，論文提出一個快速射擊計數演算法，用於可製造性評估，實現超過 130 倍加速，同時維持傳統射擊計數指標的掩模排序。廣泛實驗顯示，LithoGRPO 在基於優化和基於學習的方法中均達到最先進性能，同時保持高效掩模生成。